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2年目前期の履修登録

もうすぐ4月。今週は年度末ということもあってとても多忙で、睡眠も満足にとれず、食生活も乱れ、ひたすら疲れていましたが、そんな日々もひとまず今日でおしまいです。

今週末はゆっくり休むぞ!美容院にも行きたいものです。もう半年以上も行けてない…

そして、4月からは大学院の2年目が始まります。今週は前期の履修登録期間でした。さんざん迷いましたが…結局、以下の科目にしました:
・ 意匠・商標法令要論
・ 意匠法令特論1
・ 意匠法令特論2
・ 商標法令特論1
・ 著作権法特論

ちなみに、去年の前期に履修したのは、以下の科目です:
・ 特許・実用新案法令要論
・ 特許・実用新案法令特論1
・ 特許・実用新案法令特論2
・ 特許・実用新案法令特論3
・ 工業所有権関連条約特論1
・ ITコンピューティング特論

そして、去年の後期に履修したのが、以下の科目です:
・ 特許・実用新案法令特論4
・ 特許・実用新案法令応用特論
・ 特許出願特論
・ ソフトウェア特許特論
・ 工業所有権関連条約2
・ 米国・欧州特許特論
・ インターネットワーキング特論
・ デジタルコンテンツ管理技術特論

うーん、こうしてみると、2年目はちょっぴり楽になるかしら?

でも、2年目は2年目で、
「修論に本腰を入れなくちゃ」とか、
「論文答練のゼミもとるし」とか、
「選択科目免除のための資格を取る勉強もしなくちゃ」とか、
「特・実はともかく、意・商は全くといっていいほど未知の世界だ」とか、
いろいろと2年目ならではの課題も多いのです。

まぁ、今から悲観しても仕方がありません。始まったら始まったで、なんとかなるものです。去年の前期、あれだけ大変だったけど乗り越えたんだから、今年だってきっと大丈夫。頑張っていこう!

by hemp-vermilion | 2009-03-27 20:32

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